打造國家重大科研裝備衍射光柵
近日，有關(guān)專家到長春光機(jī)所檢查和指導(dǎo)兩個(gè)重大科研裝備研制項(xiàng)目的進(jìn)展情況，專家們對“大型高精度衍射光柵刻劃系統(tǒng)”項(xiàng)目和“4米量級(jí)高精度SiC非球面反射鏡集成制造系統(tǒng)”項(xiàng)目的進(jìn)展和取得的階段性成果表示滿意。? 光柵制造技術(shù)是一種超精密加工技術(shù)。要達(dá)到大刻劃面積和高刻劃精度標(biāo)準(zhǔn)，必須要有精密機(jī)械加工、精密光學(xué)加工、精密自動(dòng)控制和恒溫隔震技術(shù)作為前提。由于我國機(jī)械制造領(lǐng)域技
近日，有關(guān)專家到長春光機(jī)所檢查和指導(dǎo)兩個(gè)重大科研裝備研制項(xiàng)目的進(jìn)展情況，專家們對“大型高精度衍射光柵刻劃系統(tǒng)”項(xiàng)目和“4米量級(jí)高精度SiC非球面反射鏡集成制造系統(tǒng)”項(xiàng)目的進(jìn)展和取得的階段性成果表示滿意。
光柵制造技術(shù)是一種超精密加工技術(shù)。要達(dá)到大刻劃面積和高刻劃精度標(biāo)準(zhǔn)，必須要有精密機(jī)械加工、精密光學(xué)加工、精密自動(dòng)控制和恒溫隔震技術(shù)作為前提。由于我國機(jī)械制造領(lǐng)域技術(shù)能力與國外存在較大差距，我國至今沒有高精度大尺寸光柵的制造能力，難以滿足光譜儀器行業(yè)、大科學(xué)工程應(yīng)用的特殊需求。
長春光機(jī)所科研人員面向戰(zhàn)略需求和世界科技，以高技術(shù)為主線，研制的“大型高精度衍射光柵刻劃系統(tǒng)”項(xiàng)目以突破高精度位移控制技術(shù)、米級(jí)行程納米精度相位鎖定技術(shù)等關(guān)鍵技術(shù)，研制具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的大型高精度衍射光柵刻劃系統(tǒng)為目標(biāo)，開展大面積高精度光柵制作技術(shù)研究，滿足空天觀測等急需領(lǐng)域的需求。
目前，“大型高精度衍射光柵刻劃系統(tǒng)”已完成光柵刻劃機(jī)、溫控及隔振系統(tǒng)、光柵制作工藝三大組成系統(tǒng)的研制工作，并在去年10月首次完成了連續(xù)14天的中階梯光柵刻劃試驗(yàn)。目前，正在進(jìn)行設(shè)備驗(yàn)收申請工作，同時(shí)計(jì)劃在今年4月進(jìn)行改進(jìn)提高后的中階梯光柵刻劃，并盡快進(jìn)行課題驗(yàn)收準(zhǔn)備工作。
長春光機(jī)所科研人員研制的“4米量級(jí)高精度SiC非球面反射鏡集成制造系統(tǒng)”項(xiàng)目，在空間光學(xué)等領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用前景。這一項(xiàng)目的實(shí)施，將形成具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的高精度大口徑非球面反射鏡集成制造系統(tǒng)，為重大戰(zhàn)略需求提供可靠的技術(shù)保障，提高我國在防災(zāi)減災(zāi)、應(yīng)急響應(yīng)等方面的綜合實(shí)力。
SiC是上世紀(jì)70年代發(fā)展起來的新型光學(xué)材料，由于其具有比剛度高、導(dǎo)熱快等優(yōu)點(diǎn)，在空間光學(xué)等領(lǐng)域有重要的應(yīng)用前景。目前項(xiàng)目中“SiC鏡坯制造分系統(tǒng)”已完成2.4m口徑SiC整體鏡坯制備，并已突破4m量級(jí)SiC鏡坯素坯成型、脫脂燒結(jié)和素坯連接等關(guān)鍵技術(shù)；“非球面加工檢測分系統(tǒng)”在完成設(shè)備研制基礎(chǔ)上，已完成1.35m量級(jí)SiC非球面加工與檢測、2m反射鏡的精研磨等工作；“改性/鍍膜分系統(tǒng)”在完成設(shè)備研制基礎(chǔ)上，已完成2m口徑Si改性層鍍制的工藝試驗(yàn)、5m鍍膜機(jī)Si改性層鍍制的工藝試驗(yàn)?！?米量級(jí)高精度SiC非球面反射鏡集成制造系統(tǒng)”計(jì)劃在今年6月底前完成項(xiàng)目設(shè)備驗(yàn)收準(zhǔn)備工作。
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發(fā)布時(shí)間：2016.10.20
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